近日,研究中心曹宇鹏教授在国际知名期刊《Intermetallics》发表题为“Microstructure and wear properties of (AlxCoCrFeNi)N0.5 dual-phase high-entropy alloy thin films prepared by magnetron sputtering”(磁控溅射制备(AlxCoCrFeNi)N0.5双相高熵合金薄膜的微观结构与磨损性能研究)的研究成果。研究中心曹宇鹏教授为第一作者、周锐讲师为通讯作者。
为解决海洋工程E690钢磨损失效问题,研究以磁控溅射制备不同 Al 含量的(AlxCoCrFeNi)N0.5(x=0.3, 0.5, 0.7)双相高熵合金薄膜,结合多种表征技术分析其微观结构、力学及摩擦磨损性能,阐释双相结构调控机理。试验结果表明,Al含量增加促进薄膜非晶化,x=0.5时形成纳米晶-非晶双相结构。纳米晶在Hall–Petch效应下增强薄膜的强度,非晶壳层能抑制晶界滑移或晶界软化,避免Inverse Hall–Petch效应的发生,合理的双相比例能强化薄膜的同时起到增韧的作用,为高性能耐磨涂层的成分设计与制备工艺优化提供了新的理论依据和技术参考。
《Intermetallics》是JCR Q1区、中科院2区期刊,2024年影响因子4.8,是有色金属领域高质量科技期刊分级目录T1分级期刊。

